拓荆科技上市首日涨逾28%，大基金持股26%，背靠中芯国际

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【概述】 泡财经获悉，4月20日，国产半导体设备厂商拓荆科技（688072.SH）正式登陆上海证券交易所科创板。发行价格为71.88元/股，发行数量为3161.98万股，成功募资约22.73亿元（扣除发行费用后募集资金净额约为21.28亿元），相比之前的计划超募了12亿元。

根据此前的招股计划，拓荆科技拟募资约10亿元，主要用于先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目、高端半导体设备扩产项目及补充流动资金。

【解读】 近日，新股行情不佳，弃购较多，拓荆科技成为难得的“惊喜”。

4月20日，两只科创板新股峰岹科技、拓荆科技上市。截至收盘，前者大跌19.27%，后者则涨逾28%。在发行阶段，上述两股均存在网上弃购。其中，拓荆科技弃购数量153.63万股，弃购金额1.1亿元，弃购金额略低于峰岹科技的1.497亿元。

拓荆科技今日开盘后，股价一度大涨46%，涨至104.96元/股，截至收盘股价回落至92.30元/股，涨幅28.41%，市值116.74亿元。盘中40%高点卖出的话，中一签大约赚可14000元。

拓荆科技本来并不被看好，根据拓荆科技的发行股数计算，公司首日发行的市值接近90亿，同时其发行价为71.88元/股，与其同日申购的英集芯的发行价仅为拓荆科技的三分之一。

股民称，原计划亏一万，最后挣一万四，相当于挣了两万四。

拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头企业，也是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备、SACVD设备厂商。主要产品有等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。

薄膜沉积是芯片制造的核心工艺环节，晶圆厂通过这种技术制造芯片衬底上的微米或纳米级薄膜材料层。薄膜沉积设备、光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造的三大主设备。目前这一市场基本被应用材料、泛林半导体、东京电子等国际龙头占据，是国产半导体的“卡脖子”环节。

2018-2020年，拓荆科技营收分别为0.7亿元、2.5亿元、4.3亿元、3.7亿元，归母净利润分别为-1.03亿元、-0.19亿元、-0.11亿元。2021年公司营业收入为7.58亿元，同比增长73.99%，净利润0.68亿元，实现扭亏为盈，但这主要得益于政府补贴，2021年度计入当期损益的政府补助金额为1.56亿元，扣非净利润依然为亏损。

拓荆科技表示，这主要由于半导体设备行业技术含量高，研发投入大，产品验证周期长，公司需要持续进行了大量的研发投入所致。

从各类产品的产量、销量及销售收入占比来看，PECVD仍是产销量及营收占比最高的。其中，PECVD的销售收入在总营收当中的占比一直都是在77%以上。ALD、SACVD设备的产销规模较小，在营收当中的占比也较小。

目前薄膜沉积设备行业呈现出高度垄断的竞争局面，行业基本由美国应用材料（AMAT）、荷兰先晶半导体（ASMI）、美国泛林半导体（Lam）、日本东京电子（TEL）等国际巨头垄断。2019年，ALD设备龙头东京电子（TEL）和先晶半导体（ASMI）分别占据了全球31%和29%的市场份额；而应用材料（AMAT）则基本垄断了PVD市场，占85%的比重；在CVD市场中，应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam）和东京电子（TEL）三大厂商占据了全球70%的市场份额。

随着半导体行业整体景气度的提升，全球半导体设备市场呈现快速增长态势，拉动市场对薄膜沉积设备需求的增加。MaximizeMarketResearch预计全球半导体薄膜沉积设备市场规模将从2020年的172亿美元扩大至2025年的340亿美元，保持年复合13.3%的增长速度。

拓荆科技的客户非常集中，2021年1-9月，前五大客户的销售金额占了收入的92.44%，这些客户主要是国内主流晶圆厂，如中芯国际、长江存储、华虹集团、厦门联芯、燕东微电子等。其中，中芯国际近两年多以来一直是拓荆科技的第一大客户。根据中国国际招投标网公布的信息，本土晶圆厂正在加大设备采购力度，本土晶圆厂建厂的热潮将一同引领中国半导体薄膜沉积

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